鑒于所有的不確定性,年輕的Jan Le Poole渴望成為一名先鋒,后來證明他很幸運。Jan Le Poole制造了一臺兩級電子顯微鏡,1941年可以拍攝第一張電子顯微照片。然而,40kV的加速電壓被證明是非常局限的。因此,Jan Le Poole決定與飛利浦物理實驗室合作建造一臺150k V電子顯微鏡。在埃因霍溫的飛利浦,A.C.van Dorsten開發了一個非常穩定的150k V的部件,同時Le Poole在H.J.de Heer的協助下正在代爾夫特研究電子光學系統。在1944年春天的代爾夫特,全新的150k V電子顯微鏡被研制成功。
圖1 (左圖)J. B. Le Poole博士,荷蘭電子顯微鏡創始人(右圖)代爾夫特電子顯微鏡,1941年4月
備注2:在此設計之前,所有電鏡都還不能在不移動樣品的條件下同時獲得電子顯微像和電子衍射譜,那時普遍的做法是采用一個特殊的衍射轉換器獲得電子衍射,非常不方便。J. B. Le Poole這項極有意義的創造后來直接被用于飛利浦公司的商業電鏡產品之上,導致專用的電子衍射儀(如美國RCA公司的EMD-2)逐漸成為歷史。
圖3 450千伏電子顯微鏡電子光學柱的橫截面,設計始于1943年初;(右圖)H. B. Dorgelo教授在1946年拍攝的第1000張電子顯微照片
在戰爭平息下來之后,代爾夫特電鏡被重新組裝起來。但此時,J. B. Le Poole博士也開始懷疑,在與世隔絕的環境下使用代爾夫特電鏡開展相關研究,是否對促進電子顯微學的發展具有意義。在埃因霍溫的飛利浦是否準備開始在商業基礎上生產電子顯微鏡?此時,飛利浦的總裁Anton Philips博士還沒有聽說過代爾夫特電子顯微鏡的構造。1946年1月,Jan Le Poole有機會訪問英國,并參加了英國電子顯微鏡集團的一次會議。在那里,他最后的一絲懷疑消失了:代爾夫特電鏡確實是一種創新。他在英國遇到了Van Dorsten,他們討論了對商用飛利浦電子顯微鏡的要求。1946年1月,飛利浦董事會似乎改變了觀點,開始準備推動電子顯微鏡樣機的開發,商業生產電鏡有了基礎。
戰爭結束后,代爾夫特研究所的工作人員逐漸增加:有4名物理學家、1名生物學家、1名工程師、2名儀器制造師和4名技術人員。從1946年起, Le Poole得到了J. Kramer的協助,J. Kramer在過去的36年中一直是Le Poole的得力助手。1946年,物理學家的首要任務是校正電鏡的像散,提高高電壓穩定性,以及進一步發展一種更強的物鏡,即在不需要進一步穩定透鏡電流和高電壓的情況下充分降低色差。包括其他工作在內,這項工作為飛利浦簡化電子顯微鏡的設計提供了背景。
圖4 J. B. Le Poole的團隊 , 1947年. 前排: de Heer, van Ments, Miss Schaap, Dr. van Iterson, Dr. Le Rütte. 第二排: Groenheide, Fraase Storm. 后排: Le Poole, Miss Le Poole, Miss van derWees, Miss van de Heuvel, Kramer
圖 5 (左圖)飛利浦電子顯微鏡EM100;(右圖)EM 100的發布會,從左至右分別是:H. B. G. Casimir, W. J. Oosterkamp,H. Alting, H. B. Dorgelo, J. B. Le Poole, A. Verhoeff, A. C. van Dorsten.
Dyke于1938年在林菲爾德獲得物理學學位,但他在華盛頓大學的研究生學習因第二次世界大戰而中斷。在這些年里,他在麻省理工學院從事雷達研究,不得不與雷達所依賴的電子束所帶來的輻射影響作斗爭,Dyke很快就意識到,這些輻射可以被利用。在戰后完成他的博士學位后,他回到了林菲爾德,開始進行場發射研究。1955年,林菲爾德研究所(LRI)在俄勒岡州的麥克明維爾成立,以減輕Dyke的研究給物理系帶來的經濟負擔。LRI很快為其場發射的研究工作找到了一個商業應用:一個可用于定格射線攝影和輻射研究的閃光X射線系統。為了實際生產該系統和其他可能由LRI研究產生的產品,Dyke于1958年成立了場發射( Field Emission)公司。
1961年,Swanson在LRI加入Dyke團隊,同時也開始在林菲爾德大學任教。1971年,他與合伙人Noel Martin 和 Lloyd Swenson在林菲爾德校園的一棟大樓里成立了從LRI發展出來的第二家公司 --Field Electron and Ion。兩年后,公司名稱縮寫為FEI公司。FEI的成立是為了向場發射的研究人員提供高純度、定向的單晶材料,平穩地運營了幾年后,開始在該領域內變得知名,尤其是在電子和離子束發射器的設計和制造方面。1981年,它開發了液態金屬離子(LMI)源,改進了聚焦束技術,對半導體行業產生了重大影響,該行業利用聚焦束技術改進了故障分析的方法。一年后,FEI開始運送其第一個LMI聚焦光學柱,獲得了惠普公司、英特爾公司和希捷公司等主要企業客戶的青睞,公司業務開始起飛。FEI最終將其業務總部遷至俄勒岡州希爾斯伯勒市,以更接近這些客戶。
在20世紀90年代初,FEI與飛利浦電子光學公司(Philips Electron Optics)結成聯盟,共同開發一種創新的新產品。飛利浦在電子光學方面的經驗可以追溯到20世紀30年代,它在1949年制造了世界上第一臺商用透射電子顯微鏡,并在隨后的幾年中負責該領域的一系列進展。1990年,飛利浦公司推出了一臺適合用于六英寸半導體晶片的掃描電子顯微鏡(SEM)。1993年,FEI和飛利浦將他們的技術結合起來,創造了第一個雙束(FIB/SEM)工作站。
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