俄歇電子能譜的微區分析

微區分析也是俄歇電子能譜分析的一個重要功能，可以分為選點分析，線掃描分析和面掃描分析三個方面。

這種功能是俄歇電子能譜在微電子器件研究中最常用的方法，也是納米材料研究的主要手段。

（1）選點分析

俄歇電子能譜選點分析的空間分別率可以達到束斑面積大小。因此，利用俄歇電子能譜可以在很微小的區域內進行選點分析。

a. 在正常樣品區，表面主要有Si, N以及C和O元素存在；

b. 而在損傷點，表面的C,O含量很高，而Si, N元素的含量卻比較低；

c. 說明在損傷區發生了Si3N4薄膜的分解。

（2）線掃描分析

俄歇線掃描線掃描分析可以在微觀和宏觀的范圍內進行（1～6000微米），可以了解一些元素沿某一方向的分布情況。

橫坐標為線掃描寬度，縱坐標為元素的信號強度

（3）面掃描：元素面分布分析

可以把某個元素在某一區域內的分布以圖像的方式表示出來。