平面研磨法是將氬離子束傾斜照射到樣品表面，并將氬離子束中心和樣品旋轉中心進行偏心調整，實現廣域加工的方法3) 。氬離子束的照射角度(θ)可設置為0°～90°4) 。當照射角度≥80°時，離子束照射角度與樣品加工面近乎平行，因此，可以減少由于晶體取向和成分蝕刻速率差造成的凹凸不平，形成相對平滑的加工面。這種方法常用于去除機械研磨加工對樹脂包埋樣品造成的研磨痕跡，實現樣品的精加工。照射角度較小時，可以利用蝕刻速率差，凸顯樣品的凹凸特性。通過樣品表面的凹凸形貌，判斷多層膜的層結構等。
