| 儀器名稱： | 反應離子蝕刻機 |
| 儀器編號： | 85427700 |
| 產地： | 瑞典 |
| 生產廠家： | 瑞典 |
| 型號： | PTL 520/520 |
| 出廠日期： | 198509 |
| 購置日期： | 198509 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 微納加工 集成電路 半導體工藝 刻蝕 |
| 技術指標： | 介電材料刻蝕：RIE模式；刻蝕精度：1微米 |
| 知名用戶： | 王喆垚、任天令、劉澤文、吳華強、梁仁榮、潘立陽、王敬、許軍、鄧寧、錢鶴、伍曉明（微電子所） 尤政、朱榮、阮勇（精儀系）、羅毅（電子系）、姚文清（化學系） |
| 技術團隊： | 吳華強、伍曉明、劉朋、李希有、仲濤 |
| 功能特色： | 本刻蝕機刻蝕方式：RIE模式。刻蝕精度：1微米。主要刻蝕介質：Si3N4、Si、POLY-Si、SiO2.刻蝕尺寸：4英寸及以下及切割片。選擇比、均勻性良好。 |
樣品要求：
多片式；硅片尺寸：4英寸及以下
預約說明：
實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則
取消預約需提前2個小時通過網上取消預約；
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 自主刻蝕 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 300.0 | |
| 送樣刻蝕 | 元/小時 | 測試費 | 300.0 |