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    發布時間:2022-03-12 08:55 原文鏈接: 一例植皮術后供皮區多形性日光疹同位不反應病例分析

    病例介紹


    患者男,54歲,因雙上肢、發紅斑、丘疹,于2015年7月至鄭州大學第一附屬醫院皮膚科就診。2015年5月,患者雙上肢伸側、頸部V型區曝光部位相繼出現紅斑及扁平丘疹,散在或小片融合,明顯瘙癢,自述日曬后癥狀加重。皮疹初始稀疏,后漸增多,少量紅斑、丘疹融合成片。當地醫院按日光皮炎囑戴遮陽帽避光,給予西替利嗪口服及皮炎平外用,皮疹時輕時重。近2年患者有類似病史,每年春季發病,秋冬季后逐漸消退,曝光部位基底部遺留淡褐色斑。病程中患者雙上肢爆光區域有3處長方形植皮術供皮區未見明顯發疹及色素沉著,與皮疹區和色沉區形成明顯反差。既往無濕疹及藥物過敏史,無紅斑狼瘡、皮肌炎病史,無傳染性疾病病史。3年前,患者左下肢外傷曾行植皮術,供皮區為雙上肢伸側色素減退區域,術后創面愈合良好。


    體檢


    系統檢查未見異常。皮膚科檢查:面部、上肢暴露部位膚色偏深呈淡褐色或紅褐色。雙上肢伸側、頸胸部V型區曝光區域紅斑及扁平丘疹,散在或小片融合,基底部為紅褐色或淡褐色陳舊性色素沉著斑;右前臂前側可見10cm×6cm無皮疹區(原植皮術供皮區),伴輕度色素減退。雙上臂前外側見15cm×12cm類似無皮疹及色素減退區(圖1,2)。左下肢股前外側可見兩處25cm×20cm瘢痕。

    實驗室檢查:血常規及肝腎功能、空腹血糖正常。左上肢丘疹病理檢查:皮皮輕度水腫、局灶角化不全、棘層增厚,真皮淺層血管周圍稀疏至中等淋巴細胞浸潤。


    圖1 患者雙上肢、頸胸部V形區曝光區域紅斑、丘疹,散在或小片融合,基地部陳舊性色素沉著 圖2 右上臂前側長方形供皮區愈后創面,色素減退,與新發皮損及色素沉著區域邊界清晰,未見發疹

    診斷:多形性日光疹、同位不反應。


    治療


    囑嚴格避光。給予雷公藤多苷片,20mg,每日3次;羥氯喹0.1,每日2次;鹽酸左西替利嗪片,10mg,每晚1次;鹵米松乳膏外用,2周后皮疹明顯好轉,紅斑、丘疹減輕,瘙癢顯著改善。復查血、尿常規無異常。雷公藤多苷片減為20mg,每日2次。6周后皮損基本消退,遺留輕度色素沉著。


    討論


    同位不同反應(isotopic nonreaction)現象臨床罕見,由Katayama等于1990年首先報道。1995年Wolf等將其定義為原有皮膚病痊愈后,同一部位對新出現的、與原有疾病無關的另一種疾病無反應的現象。在國內,該現象于2015年由來學民等首先綜述。由于臨床病例罕見,加之對同位不反應現象的忽略以及定義上存在的認知偏差,故對某些病例是否完全符合同位不反應的定義還存在爭議。我們復習了來學民等綜述中的2例典型病例,認為本例患者全部符合Wolf同位不反應定義:1、雙上肢植皮術供皮區創面已痊愈3年,僅存留輕度色素減退;2、3年后雙上肢及頸胸部V型區域出現的多形日光疹,與原有疾病無關聯;3、在上述皮疹的中心和邊緣部位形成的多形性日光疹無反應區,與供皮區為同一部位,周邊界限清晰。依據臨床表現及病史,診斷植皮術后供皮區多形日光疹同位不同反應成立。

    同位不同反應的形成機制不明,有前后兩種疾病發病機制上互相抑制、局部免疫異常、表皮朗格漢斯細胞破壞、角質形成細胞、朗格漢斯細胞的功能損害,使局部應對外來致炎因子時形成的免疫無反應性可能更大。治療上,同位不反應本身無需治療,主要針對新發疾病按其治療原則進行對因、對癥治療。本例不足之處是未對皮疹無反應區進行光敏試驗,探明是否存在同位不反應區域的UVA和UVB的不反應型,缺少了對發生機制的實驗性驗證,故其機制尚需進一步觀察。




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