下頜第一磨牙通常含近遠中根各1個,近中根多為雙根管,遠中根多含1~2個根管。以往文獻報道了下頜第一磨牙根管數目的變異性,包括1%~15%出現近中中間根管(middle mesial canal,MMC),MMC的遺漏可導致根管治療失敗。臨床上,手術顯微鏡和錐形束CT的應用有助于發現位于近中頰側和近中舌側根管之間的MMC。中山大學光華口腔醫學院·附屬口腔醫院牙體牙髓病科曾接診下頜第一磨牙近中根三根管多例,現報道1例如下。
1.病例資料:
患者男性,23歲,因“右下后牙冷熱刺激痛、自發性隱痛1個月,近1周咬物痛明顯”就診。患者否認重大疾病史及過敏史。檢查示6 牙合面可見齲洞,遠中可探及深齲洞,探診(±),叩診(++),松動I度,前庭溝處牙齦紅腫,捫診疼痛,無明顯波動感。X線片示6遠中驗面深齲達髓腔,近中根尖部牙周膜增寬,硬骨板消失,根尖區可見透射區(圖1)。

圖1 6術前根尖片示遠中猞面深齲達髓腔,近中根尖區可見透射區
診斷:6慢性根尖周炎急性發作。治療計劃:6根管治療及冠修復。急性處理包括:6阿替卡因阻滯麻醉下上橡皮障,降低咬合約2mm,開髓,修整髓腔后可探及近中頰、近中舌、遠中頰及遠中舌共4個根管,初測4個根管的工作長度約16 mm,用10號K銼穿通根尖孔,用5.25%NaClO+17%乙二胺四乙酸(ethylenediaminetetraacetic,EDTA)交替沖洗,再以15號K銼預備根管后暫封。
3 d后患者復診訴疼痛明顯緩解,無自發痛及夜間痛,但仍有較明顯的咬物痛。檢查示6氧化鋅暫封完整,叩診(+),無松動,前庭溝處牙齦無紅腫,捫診無明顯疼痛。6去暫封后,遠中使用流動樹脂制作假壁后上橡皮障。顯微鏡下可見近中頰舌側連線上有一較深的溝裂,鈣化沉積明顯(圖2)。

圖2近中頰舌側根管連線有一較深溝裂,鈣化沉積明顯
DGl6探針及15號CC+試探,溝內有卡住感。顯微鏡下超聲磨除溝內鈣化物,尋找到細小MMC(圖3),EDTA疑膠(Glyde,Densply,美國)輔助下K銼擴通,近中插針拍片確認為三根管(圖4)。遠中雙根管口間亦可見峽溝,較多鈣化物,超聲清理。測量工作長度后常規ProTaper預備近中頰、近中舌及遠中頰根管至F3,近中中間及遠中舌根管至F2。預備過程輔以5.25%NaCIO及17%EDTA交替沖洗,間斷使用賽特力超聲被動蕩洗。根管預備完成后封入氫氧化鈣。

圖3顯微鏡下超聲磨除溝內鈣化物,尋找到細小近中中間根管

圖4術中插針確認近中三根管
兩周后復診無明顯不適,口腔檢查示6暫封完整,叩診(-),無松動,牙齦正常。6上橡皮障后去除暫封物,顯微鏡下超聲及5.25%NaClO蕩洗去盡氫氧化鈣,插5根大錐度牙膠尖拍片,顯示主尖適合,AH-PLUS糊劑+熱牙膠連續波充填,涂自酸蝕粘接劑(AdperTM Easy One,3M ESPE,美國),粉紅色流體樹脂封閉髓底及根管口,Z350樹脂充填。多角度拍術后片均顯示根充良好,為5個獨立根管,遠中雙根管間可見明顯交通支(圖5,6)。建議觀察2周后冠修復。半年后復查無不適主訴,偶有食物嵌塞;口腔檢查示6樹脂充填物完好,76間有食物嵌塞,6叩診(-),無松動,牙齦正常。6根尖x線片示根充良好(圖7)。錐形束CT示近中少許陰影,近中三根管為獨立根管,近中頰和MMC有共同根尖孔,近中舌根尖孔獨立,遠中頰舌側問可見明顯交通支(圖8),錐形束CT近遠中五根管3維重建示根充良好(圖9), 6近中根亦為三根管(圖10)。牙體預備,取光學印模后計算機輔助設計與輔助制作完成全冠修復,粘固,調磨拋光(圖11)。


圖5根充后拍正位片示根充良好;圖6根充后偏位片示遠中雙根管間見交通支,近中三根管中ML為獨立根尖孔,MM及MB為共同根尖孔(箭頭),DL:遠中舌根管;DB:遠中頰根管;ML:近中舌根管;MM:近中中間根管;MB:近中頰根管;圖7根管治療術后復查根尖X線片示根充良好;圖8 6錐形束CT復查顯示近中根尖區仍有少許陰影,近中中間與近中頰根管為共同根尖孔,近中舌根管為獨立根尖孔;圖9錐形束CT近遠中五根管三維重建示根充良好;圖10橫斷面顯示右(左箭頭)、左下頜第一磨牙均為近中三根管(右箭頭);圖11計算機輔助設計與輔助制作完成冠修復
2.討論:
術前、術中不同水平角度的x線投射有助于尋找額外根管。近年采用的三維影像學成像較二維x線片更能準確地評估根管系統。本病例術后使用錐形束CT觀察到對側未治療6的MMC,提示錐形束CT可用于MMC的準確診斷。MMC根管口通常位于連接近中兩主根管的峽部,應注意用尖銳器械如根管口探針等探查,一旦獲得卡住感或黏針感多提示存在MMC。此外,MMC多被鈣化物或牙本質突遮擋,可借助手術顯微鏡通過超聲工作尖去除后暴露根管口。
通常MMC直徑較近中頰舌側根管細小,預備MMC時應防止預備過度造成的峽部帶狀穿孔。本病例在臨床探查時用沖洗液注入近中頰根管并在顯微鏡下觀察到MMC有液體溢出,提示MMC與近中頰根管有共同開口,因此MMC預備至砣,近中頰根管預備至F3。
此外還應該注意到下頜第一磨牙根管系統存在大量峽區,且多位于根尖段。這些區域僅靠機械預備難以徹底清理,因此在預備中需加強化學預備或沖洗,尤其是對根尖1/3段。本病例中的沖洗液為5.25%NaCIO及17%EDTA,采用超聲蕩洗及側方開口的31 ga NaviTip@沖洗針頭(Ultradent,美國),可深入根尖1/3區域進行較為徹底的清理。本病例提示在下頜第一磨牙的根管治療中,應盡可能利用多角度x線片或錐形束CT,并在顯微鏡下對髓室底仔細探查尋找MMC或其他額外根管。在處理MMC時應防止過度預備,強調化學預備和熱牙膠三維充填。